ホットステージ | Thermocera Japan Ltd.

ホットステージ「基板加熱機構」 Max1800℃

基板加熱ヒーター, ウエハー加熱, 加熱ステージ, ウエハーアニール


	概要ホットステージは、上下昇降機構（基板ホルダー部・ヒーターヘッド部のいずれか、又は両方）、基板回転、RF/DC基板バイアス（逆スパッタ RF/DCクリーニング）、加熱部傾斜など、基板加熱ステージに求められる様々な機能を装備した「All-in-One」コンポーネントです。半導体製造装置・各種真空装置（蒸着装置、スパッタ、CVD装置）などのあらゆるご要求に対応致します。

2inch Hot Stage_800C

Wafer Tray_lift up


	用途・採用事例 ◉ 半導体製造・薄膜実験装置・RF/DC逆スパッタ, PECVD, RIE等 ◉ 既設装置の加熱機構部をホットステージに交換（800℃仕様→Max1600℃へ改造） ◉ 新規プロセス評価機、試作機など


	加熱部仕様 ◉ NiCrヒーター ◉ Inconelヒーター ◉ タングステンヒーター ◉ モリブデンヒーター ◉ ハロゲンランプヒーター ◉ Graphiteヒーター ◉ C/Cコンポジットヒーター ◉ 各種コーティングヒーター（PG, PBN, SiCコーティング, グラッシーカーボン） ※ 使用温度、データは「セラミック・トップ・ヒーター」を参照下さい。