セラミック・トップ・ヒーターは、真空・不活性ガス・その他各種プロセスガス中での薄膜研究開発用途、各種真空成膜装置用途に幅広くご使用いただけます。トッププレートに高温での熱伝導率に優れ、電気絶縁性の高い窒化アルミ製プレートを採用しております（他にInc600、石英、Mo、W、BNプレートなども可能）。ヒーターエレメントは、NiCr、Inc、Mo、W等の金属素線、及びグラファイト、CCCなどのカーボンヒーター、PG/SiC/PBNコーティングなどのコーティングヒーター等、使用条件に応じて選択が可能です。研究開発用のみならず、半導体製造装置・各種真空装置（PVD、CVD、MBEなどの超高真空装置等）での高温ホットプレート、基板加熱ステージとしても多数実績のあるヒーターです。

※ セラミック・トップ・ヒーターは、カスタマイズ製品です。お見積り依頼の際は当社までご要求仕様条件をお知らせ下さい。

◉ 真空薄膜形成（CVD, スパッタ, ALD, PLD, MBE他）
◉ 薄膜応力・熱解析
◉ ウエハーアニール用加熱ステージ
◉ その他

◉ NiCrヒーター Max1000℃
◉ Inconelヒーター Max1000℃
◉ タングステンヒーター Max1800℃
◉ モリブデンヒーター Max1800℃
◉ ハロゲンランプヒーター Max900℃
◉ Graphiteヒーター Max2,200℃（真空中）
◉ C/Cコンポジットヒーター Max2,200℃（真空中）
◉ 各種コーティングヒーター（PG, PBN, SiCコーティング, グラッシーカーボン）*使用条件により最高使用温度異なります。

◉ 窒化アルミ
◉ インコネル
◉ ステンレス（SUS304, SUS316）
◉ 石英
◉ モリブデン
◉ BN

◉ ICFフランジ
◉ ISO（KF, LF）フランジ
◉ JIS（VG, VF）フランジ
◉ M6スタッドネジ固定
◉ 固定ブラケット、他（*都度お打ち合わせ）

◉ Kタイプ
◉ R, Cタイプ