基板加熱ヒーター SHシリーズ Max1100℃
大気中, 高真空, 活性, 不活性ガス中での薄膜実験に最適
コストパフォーマンスに優れた高温ヒータ：NiCr, BN/Tungstenコンポジット
基板回転・上下昇降オプション
概要Incone/BNプレートヒーター「SHシリーズ」は、大学・企業研究室での各種薄膜実験に適した、廉価な基板加熱ヒーターです。最高使用温度Max850℃（インコネル）Max1100℃（BN, 但し真空中、不活性ガス、H2ガス中のみ）、加熱有効エリアφ1.0〜6.1inch 基板固定クリップを標準付属（ヒーター外周部ハウジング表面にクリップ固定用タップ穴付属）Kタイプシース熱電対標準付属、オプションで真空導入フランジ（ICF, VG, NW等）、基板回転機構、ヒーター固定ベースフランジ、なども対応可能です。 |
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動画（2inch, 4inch基板加熱ヒーター 回転機構付）
用途◉ 薄膜形成（CVD, スパッタリング, PLD, 真空蒸着他） |
使用発熱体◉ NiCr発熱体 |
トッププレート材質◉ Inconel600プレート（SH-IN） |
主仕様
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ターゲット・カルーセル（自動ターゲット回転機構）
PLD（Pulsed Laser Deposition）1inch, 2inchターゲット x 3個
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概要PLD装置用 エキシマレーザのターゲットへの照射を均一にすることができます。 |
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