MiniLab チャンバー真空排気能力
Fast Pumping 素早い排気
約15〜20分で1x10-3Pascalまで到達
MiniLabシリーズチャンバーは短時間で所定の圧力まで到達することができます。添付排気曲線は、MiniLab-090チャンバー（90ℓ容積）の参考事例です。
粗挽きポンプ：RV8（Edwards社 8㎥/h）
ターボ分子ポンプ：nEXT400（Edwards社 400ℓ/min）
均一な成膜・正確な膜厚制御
均一な成膜・正確な膜厚制御
"Confocal Sputtering" technology
MiniLabシリーズでは、全てのモデルに'Confocal sputtering'技術を採用しております。スパッタリングの場合、基板サイズの1/2のターゲットカソードサイズで十分な膜均一性を得ることができます。添付は参考事例としてSiO2絶縁膜、Ti金属膜の均一性データを掲載しております。
いずれもΦ6inch基板、Φ3inchターゲットを採用した事例です。
高真空SUS304チャンバー
5種類のチャンバーバリエーション
●目的・用途に応じて5種類のチャンバーを用意
●豊富なポート数：コンポーネントをフレキシブルに配置
●冷却・ベーキングチャンバーも制作致します。
■MiniLab-026：26ℓ クラムシェル開閉式 SUS304
■MiniLab-060：60ℓ 400 x 400 x 400mm SUS304
■MiniLab-080：80ℓ 400 x 400 x 570mm Tallチャンバー
■MiniLab-090：80ℓ 400 x 400 x 570mm グローブBox用
■MiniLab-125：125ℓ 500 x 500 x 600mm SUS304
*上記のほかに特注チャンバー対応致します。
 26ℓ容積 |
 60ℓ容積 |
 80ℓ容積 |
 80ℓ容積 |
 125ℓ |
◉ デポアップ・ダウン・サイドいずれの方向にも対応（*ML026はアップのみ）
ロードロック機構（*オプション）
◉ メインチャンバーを開けず高真空を維持した状態で試料を交換。真空・ベントのタイムロスを無くしタクトタイムを犠牲にしません。
Example of an end station linear load lock fitted to a MiniLab-060
Linear load lock fitted to a MiniLab-060 system
Gas Cooling Station
Reactive ion etch station