MiniLab-WCF/WMF ウエハーアニール炉 Max2200℃

面状ウエハー加熱ヒーター(ウエハー焼成用)

2inch〜8inch高純度グラファイトヒーター(又はC/Cコンポジット)
安全運転・簡単操作・セミオート運転により作業者レベルを問いません

概要

2〜8inchウエハー高温焼成専用機 コンパクトサイズ・簡単操作 2200℃まで急速昇温!
SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、及びその他先端基礎技術開発部門で活用いただけます。

MiniLab-WCF/WMF実験炉MiniLab-WCF-Φ8inch-HT外観

特徴

  • 試料サイズ標準φ2inch〜φ8inch(*特殊サイズ対応致します)
  • 特注ウエハーホルダ(ウエハートレー)製作可能
  • 急速昇温
  • SingleもしくはDual Zone(2ゾーン)ヒーター制御による均一な焼成

装置ラインナップ

外径寸法、重量(*MiniLab-WCF-Φ8inch-HT参考値)

  • 1,125(W) x 590(D) x 1,160(H)mm 重量:約380kg

主仕様

 最高使用温度  2200℃(WCF:真空/不活性ガス  WMF:真空/不活性ガス/還元ガス)
 有効加熱範囲  *モデルによる(上記装置ラインナップ参照)
 ヒーター  CCコンポジット/タングステン面状ヒーター 2inch〜8inch
 断熱材  グラファイト(WCF), タングステン/モリブデン多層(WMF)
 熱電対  Cタイプ(タングステン・ロジウム)Bタイプ(白金・ロジウム)
 温度調節計  PIDプログラム温度調節計 (理化工業製 PF900)
 真空ポンプ  ロータリーポンプ(標準Edwards社製 RV12)
 電源  200V 3相 50/60Hz 8KVA+4.8KVA(WF-8inch-Dual zone型 参考値)
 到達真空度  1x10-5Torr
 オプション  ターボ分子ポンプ, 油拡散ポンプ, ドライポンプ, ケミカルポンプ
   特注ウエハーホルダー, ウエハートレー
   温度記録計
   放射温度計(*別途設置条件等要協議)
   Windows PC + モニター + キーボードスライドテーブル, 備品収納ラック
 解析ソフトウエア, シリアル通信
 タッチパネル 

8inch Wafer Tray

Hot Zone_CCC 8inch

RKC-HA900 PID温度調節計

Process Control

MiniLab-WF-Workstation