小型縦型実験炉 TVF-110

小片試料〜3inch waferまでの小基板用 手動昇降式縦型実験炉

◉ ローコスト 必要最小限の構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能です。

主な用途

  • 大学・企業研究室での小片試料基礎実験用途
  • 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理
  • 基礎実験:酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験

縦型炉,拡散炉,CVD小型縦型実験炉 TVF-110

炉芯管,拡散炉  サセプタ  温度コントローラ

特徴

  • ユーザフレンドリー, 簡単手動操作
  • シンプル構成 基礎実験用途に最適
  • ローコスト・必要最小仕様での装置ご提案が可能
  • ご要望により機能追加可能 都度カスタマイズに対応致します。
  • ※ 標準では炉体(サセプタ, 上下昇降機構含む), 温度制御部のみとなります。
  • ※ ガス導入・排気系, ガス圧力制御, 冷却水制御等は含みません。ご要望により追加致します。

主仕様


【電気炉部】
最高使用温度  Max1200℃(*ヒーター温度, 常用Max1100℃) Max950℃(基板温度)
ヒーター
 カンタルヒーター 1ゾーン式 1.5KW

炉体
 セラミック成型品 Φ290 x 300L(二つ割式) 

ケース  アルミケース開閉式
熱電対  制御用, 過昇温検知:Kタイプシース熱電対(2対式)
測温用熱電対  Φ0.65mm K 素線タイプ絶縁管付 1500L
温度制御  PID温度調節計 サイリスタ制御

【炉芯管・石英治具部】
炉芯管  Φ100 x Φ95 x 470L mm
バッファー
 234H x Φ86遮蔽板 x 2層

サセプタ
 Φ86 x t5 mm(上下ロッド付) x 2〜3段

熱電対保護管  Φ8 x Φ6 x 660L mm

【サセプタ・ベースフランジ上下昇降】
駆動方式  手動式(回転ハンドル)
ストローク
 Max300mm(サセプタ) Max500mm(ベースフランジ) 停止位置目盛付, 任意上下停止位置クランパー付

外形図