卓上型 RF/DCマグネトロンスパッタリング装置
nanoPVD-S10A
コンパクト・スモールフットプリント
高性能RF/DCマグネトロンスパッタリング装置
◉ 到達圧力：5 x10-5 Pascal
◉ 最大3源 Φ2"マグネトロンカソード:多層連続膜, 同時成膜
◉ 直感的操作 多機能ソフトウエア 'Intellidep'
概要卓上型・コンパクトなサイズの高性能RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置。小型ながら一般的な金属膜から、絶縁物、化合物など、膜質に妥協を許されないハイパフォーマンスを追求されるユーザーにもご満足いただける装置です。多層連続膜、同時成膜（*RFとDCの組合せのみ）の用途にも対応。ヒーター、回転・昇降、磁性材料用カソード、キャパシタンスマノメータによる高精度圧力制御などのオプションも豊富です。 |
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優れた基本性能● 到達真空度 5x10-5 Pascal |
高精度Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源）● DC, RF, パルスDC兼用
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プロセスガス系統 最大3系統：反応性スパッタにも対応● 7"タッチパネルより圧力・流量などの設定を一元管理
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制御ソフトウエア『Intellidep』● 直感的操作
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主仕様
| （標準構成） | （オプション） | |
| 基板サイズ | 〜Φ4inch | 〜Φ8inch |
| マグネトロンカソード | Φ2inch x 1源 | Φ2inch x 2源増設可能 |
| スパッタ電源 | DC850W, 又はRF150W （自動マッチング付属） |
DC, RF両電源搭載 |
| プラズマリレーSw | 1：3 （1電源入力→3カソード分配） |
2:3 （2電源入力→3カソード分配） |
| 真空ポンプ | ターボ分子+ロータリーポンプ | ターボ分子+ドライポンプ |
| 真空計 | WRGピラニーゲージ | キャパシタンスマノメータ増設 |
| マスフローコントローラー | 1系統（Ar） | 追加2系統（N2, O2） |
| 基板回転・昇降 | - | 10段階回転速度可変 50mm昇降 |
| 基板加熱 | - | Max500℃ランプ加熱 |
| 水晶振動子膜厚モニター | 1基 | 1基増設 |
| シャッター | ソースシャッター | - |
| 電源 | 200V 三相 10A 50/60Hz | - |
| 冷却水 | 1ℓ/min 18〜20℃ 20kpa | - |
| 圧縮空気 | 415〜4550kpa | - |
| ベントガス | N2 35kpa | - |
