• グラフェン, カーボンナノチューブ
• ZnOナノワイヤ
• SiO2等の絶縁膜など

その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応

• コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能
• ホットウオール式 反応管内を均一に加熱
• MFC高精度流量制御：精度±1% F.S.
• バラトロンゲージ（オプション）による高精度APC圧力制御
• Lab Viewソフトウエア（オプション）によるリモート制御, パラメータ設定

• Φ2.5inch（標準）x12inch石英反応管内を均一に1100℃急速加熱
• 試料サイズ：10x10mm, （Φ2.5inch）100 x 100mm（Φ4inch）
• PID温度コントロール：Eurotherm 2416プログラム温度調節計

• MKS社製高精度MFCによる流量制御 1% F.S.
• 流量範囲：0sccm 〜 100, or 1000sccm（ガス種による）
  • 0-50sccm：CH4
  • 0-500sccm：Ar
  • 0-1000sccm：H2
  • 0-50sccm for bubbler for alcohol or nontoxic liquid precursor

• RP：到達真空度 5x10-3Torr
• Pfeiffer社製真空ゲージ, コントローラ標準搭載

• MKS社 Baratronセンサ + Model.640圧力コントローラによるAPC制御
• Pfeiffer社製真空ゲージ, コントローラ標準搭載

• 圧力, 温度, ガスフロー等のパラメータ設定, 及びシステムのリモート制御
• データロギング