ANNEAL 卓上型 ウエハーアニール装置
Moorfied ANNEAL
Φ4", Φ6"ウエハーの高温均一熱処理
- Φ2"〜4"ウエハー対応, 小片基板用ホルダー（オプション）
優れた基本性能
- 到達圧力 5x10-5 pascal
- インターロック（冷却水断水、過昇温、真空度低下）
- 簡単操作 7"タッチパネル直感的操作画面
焼成雰囲気、プロセス条件に合わせて3種類のヒーター素線を用意
- ① ハロゲンランプヒーター Max500℃
- ② C/Cコンポジットヒーター Max1000℃
- ③ SiCコーティング（C/Cコンポジット） Max1000℃ *O2用
高精度プロセス制御
- 最大3基までのガス系統：マスフロー3系統搭載 高精度圧力制御
- APC自動プロセス制御（オプション）
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カタログ ダウンロード
概要[ANNEAL]卓上型ウエハーアニール装置は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用卓上型アニール装置です。高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保されており、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、APCプロセス自動制御システムなどのオプションも充実しております。 |
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主仕様◉ 基板サイズ：Φ2inch〜4inch |
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オプション◉ ドライスクロールポンプ |
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Main program view
タッチスクリーン：Main Menu画面
Graph view
タッチスクリーン：グラフ画面
外形寸法・ユーティリティ◉ 寸法：750(W) x 500(D) x 400(H)mm |
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